Перейти к содержимому
TiZO

Пенящееся очищающее средство TiZO Photoceutical Foaming Cleanser

Артикул: 109

5 790

В наличии

Вы не знаете, какому средству отдать предпочтение для снятия макияжа или простой вечерней процедуры очищения? Попробуйте инновационное решение от TIZO – нежную… подробнее

Доставка по России
Оригинал, гарантия подлинности
Бонусные баллы за покупку

Описание

В число преимуществ продукта входят следующие качества:

  • Заботливое очищение кожи;
  • Профессиональный уход;
  • Защита от УФ-лучей и устранение признаков фотоповреждений;
  • Оптимальное увлажнение, обеспечивающее эластичность и молодость кожи;
  • Выраженные антиоксидантные и противовоспалительные свойства;
  • Эффективное выравнивание тона и борьба с пигментными пятнами;
  • Нежность текстуры и простота использования;
  • Универсальность применения – унисекс формула для любых типов кожи;
  • Идеальная подготовительная основа для применения средств линейки TIZO Phototceutical .

Как это работает?

Применение трехмерной технологии Skin Firm Technology обеспечивает восстановление и защиту кожи от УФ-лучей, максимальное питание и увлажнение. При этом отсутствие в составе масел гарантирует матовость и существенное уменьшение пор. Очищающая пенка от TiZO Photoceuticals представляет собой идеальный вариант для восстановления кожи и ее эффективной защиты от вредного влияния окружающее среды и фотоизлучений.

Как применять?

  1. Небольшое количество пенки наносится на увлажненную кожу с помощью кисти или мягкой салфетки. Остатки средства смываются теплой водой. Для завершения процедуры достаточно промокнуть лицо полотенцем.
  2. На очищенную и подготовленную кожу рекомендуется наносить другие средства линейки TiZO Photoceuticals согласно типу кожи и существующим проблемам.

Детали

Производитель

Страна

Область применения

Форма выпуска

Тип кожи

, , , , ,

Объем

Потребность кожи

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “Пенящееся очищающее средство TiZO Photoceutical Foaming Cleanser”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *